摘要: 研发溢出效应以及空间异质性使得研发要素集聚与研发效率之间的关系变得复杂。本文基于空间异质性角度,采用空间面板模型和门限面板模型实证考察了我国研发要素集聚与研发效率之间的非线性空间联系。实证结果表明:我国研发要素集聚与研发效率在空间上呈非均衡分布,要素集聚对研发效率提升效应主要取决于研发投入强度以及要素集聚度,研发投入强度存在单一门槛,而研发要素集聚水平呈现倒U型的双门槛效应。本文政策含义明显,政府切忌走入盲目提高研发要素集聚的误区,应根据本地区的实际情况,有针对性地实施差异化的研发效率提升策略。